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配方分析,配方还原,成分分析,技术研发,技术转

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滚筒抛光液配方还原技术研发
产品: 浏览次数:1020滚筒抛光液配方还原技术研发 
合作单位: 交通大学等**重点实验室
公司名称: 凯思普科技有限责任公司
单价: 4888.00元/升
最小起订量: 3 升
供货总量: 40000 升
发货期限: 自买家付款之日起 1 天内发货
有效期至: 长期有效
最后更新: 2021-12-18 00:01
 
详细信息
合作单位 交通大学等**重点实验室
公司名称 凯思普科技有限责任公司
服务行业 化工行业
主营业务 配方分析 配方还原 成分分析 技术研发
我们的优势 一站式落地服务
售后服务周期 2年
分析周期 7天
保质期 24个月
材质 抛光粉
产地 顺德
规格 20kg/桶
适用范围 不锈钢
执行质量标准 国标
贸易属性 库存
品牌 凯思普
型号 SC69-02C
加工定制
单件净重 60kg/桶


 滚筒抛光液配方还原技术研发

 

滚筒抛光液是有别于固结磨具,涂附磨具的另一类“磨具”,磨料在分散剂中均匀、游离分布。滚筒抛光液可分成研磨液和抛光液。一般研磨液用于粗磨,滚筒抛光液用于精密磨削。滚筒抛光液一般用于研磨液的下道步骤,化工行业中也把抛光液称作研磨液或把研磨液称作抛光液的。

 

滚筒抛光液性能指标稳定、无毒,对环境无污染等目的。滚筒抛光液是一类不含任意硫、磷、氯添加剂的水溶性抛光剂,拥有良好的去油污,防锈,清洗和增光性能质量,并能使金属制品超过原始的光泽!

“友情提示:此页面售价为订金价格,完整价格以专业报价为准。欢迎随时咨询!”

分析热线:021-64697899 / 189-189-72009

抛光首先使吸附在抛光布上的抛光液中的氧化剂、催化剂等与衬底片表面的硅原子在表面做氧化还原的动力学过程。这是化学反应的主体。抛光表面反应物脱掉硅单晶表面,即解吸过程使未反应的硅单晶重新裸露出来的动力学过程。它是限制抛光速率的另一个关键过程。如若化工腐蚀目的大于机械抛光目的,则抛光片表面产生腐蚀坑、桔皮状波纹。如若机械磨削目的大于化工腐蚀目的,则表面产生高损坏层!

 

探擎科技专注于滚筒抛光液的分析检测项目:

成分含量分析:对产品中的基本助剂组成成分经由仪器分析得到相关微观谱图比对谱图数据库分析检测出全组分组分含量比例。

辅助生产:在分析检测出滚筒抛光液配方后,若厂家有条件,可在一定程度上辅助厂家做生产

配方成分化验:运用分析全组分成分及其含量,解析出滚筒抛光液。

不明物分析:就滚筒抛光液中的不明物,抉择其助剂组成成分,辅助厂家分析检测出该不明物是如何产生的。

 

探擎科技分析检测滚筒抛光液配方的力量:

(1)先进的检测仪器:探擎科技独立创建实验室,拥有多台先进仪器,能多方面分析检测产品,得到图谱

(2)专业核心的分析检测技术员:探擎科技拥有专职的分析还原技术员和成熟的行业生产研究配方经验,帮助厂家消除化学配方难题。

(3)成熟的图谱:探擎科技积累了深厚的配方剖析配方经验,拥有较大的图谱库。

(4)后期指导:探擎科技可以依据厂家需求,专业提供后期跟踪工艺性指导。




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